| Sede en Ourense |
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Easis asienta su sede en Ourense, en el Parque Tecnolóxico de Galicia (Tecnópole), un recinto de 550.000 metros cuadrados con servicios avanzados para empresas de base tecnológica y elevado perfil innovador. Se trata de un entorno de excelencia en el que se apoya firmemente la innovación, fomentando la transferencia de conocimiento y de tecnología y favoreciendo la creación y el crecimiento de empresas, poniendo a disposición de éstas infraestructuras de calidad y servicios de alto valor añadido dotados con las últimas tecnologías.
El recinto se encuentra en el ayuntamiento de San Cibrao das Viñas, a 12 kilómetros de la ciudad de Ourense, y está totalmente comunicado con las ciudades gallegas más importantes a través de autopistas y autovías. Además, está prevista su comunicación con la Meseta en menos de dos horas a través del AVE. De las 55 hectáreas que ocupa actualmente el recinto, un total de 24 están destinadas a parcelas en las que están instaladas empresas y centros tecnológicos. Las 31 restantes están ocupadas, además de por el Edificio CEI, por aparcamientos, zonas verdes, zonas deportivas y accesos, viales y un helipuerto, principalmente. Tecnópole mantiene vínculos activos de colaboración con Universidades, centros de investigación y empresas, con el objetivo principal de fomentar las actividades de I+D+i, al tiempo que se favorece el desarrollo y la competitividad empresarial.
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Además, la entidad pertenece a la Asociación de Parques Científicos y Tecnológicos de España (APTE) y es miembro de la Asociación Internacional de Parques Científicos (IASP). Los constantes contactos y proyectos desarrollados con estas entidades le permiten ampliar su labor en la promoción activa de la colaboración entre empresas y Centros Tecnológicos para facilitar la transferencia de tecnología; mejorar la información, relaciones y contactos que puedan ser de utilidad para el desarrollo empresarial; y promover convenios de cooperación para favorecer la mejora de la competitividad de las distintas entidades.